Les plasmas, un atout pour relever le défi de la micro- et nanofabrication
Les immenses progrès réalisés au cours des dernières années dans plusieurs secteurs de la haute technologie s'expliquent en partie par l'élaboration de nouveaux procédés de micro- et nanofabrication qui permettent la création de matériaux et de structures avancés. Plusieurs de ces procédés reposent sur l'utilisation des plasmas, un milieu où peuvent s'accomplir des processus qu'il est difficile, voir impossible d'obtenir par des moyens physiques ou chimiques traditionnels.
Les recherches de M. Mohamed Chaker, de l'INRS-Énergie, Matériaux et Télécommunications, s'articulent sur deux grands axes. Il étudiera les plasmas pour la synthèse et la gravure de matériaux et l'intégration de ces procédés de micro- et nanofabrication pour le développement de composants radiofréquence et photoniques.
M. Chaker est professeur l'INRS-Énergie, Matériaux et Télécommunications depuis 1989. Spécialiste des plasmas créés par laser, le chercheur a à son actif des réalisations dans les domaines des plasmas créés par laser pour la génération de rayonnement X et leur application à la lithographie X et EUV, des plasmas créés par laser pour la synthèse de nouveaux matériaux et les plasmas de haute densité pour la gravure de matériaux.
Le premier volet de recherche de M. Chaker porte sur la synthèse de matériaux au moyen de plasmas créés par laser, l'accent étant mis sur l'influence de la durée d'impulsion du laser (subpicoseconde à nanoseconde) sur la synthèse de siliciures métalliques, de matériaux à constante diélectrique élevée et de matériaux photoniques. Ce volet comprend également l'étude de la gravure par plasmas de haute densité pour la reproduction de motifs à l'échelle nanométrique. Le second volet touche à la réalisation de composants RF à base de matériaux ferroélectriques et de composants photoniques basés sur des matériaux électro-optiques.
Les recherches de M. Chaker permettront de continuer à mener une recherche de pointe dans le domaine des plasmas afin de maîtriser et faire progresser les procédés de micro- et nanofabrication, et d'intégrer cette capacité de réalisation de micro- et nanostructures pour innover dans le cadre du développement de composants RF et photoniques.